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硬质涂层设备

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PlasArc-950多弧离子镀膜设备

2019-02-16 点击量:

产品特点 Product features
1.新一代弧源设计,具有更高的靶材利用率及更好的液滴控制;
Utilize new generation cathode to achieve better target utilization and reduced large particles;
2.刀具,微型刀具,刀粒,模具及零件涂层生产的理想选择;
Ideal for large quantities of cutting tools, microtools, inserts, stamping, die-casting, plastic moulding and components;
3.可对产品进行涂前氮化处理;
Provide ion nitriding case hardening process before PVD coating;
4.可同炉沉积最多4种不同成分靶材材料;
Evaporation up to 4 target materials per batch;
5.更高的产能(每天4炉)。
Higher productivity (4 batches per day).

技术参数 Technical Parameters:

SKYVAC PlasArcTM 950 
转盘直径 Swing diameter 750mm
涂层有效高度 Coatable height 700mm
最大装载量 Max. loading capacity 400kg
技术 Technology  多弧 Arc
弧源 Arc sources 12个弧源 (100mm) 12 cathode positions (100mm)
可选技术 Technology options 磁控靶,离子源及涂前氮化处理  Sputtering, Ion source and nitrogen treatment
气体 Gas modules Ar, N2, H2, C2H2, O2, He
最大加热温度 Max. heating temperature 500℃


设备尺寸 Dimensions:  
长 Length 3640mm
宽 Width 2250mm
高 Height 2280mm
占地面积 Footprint 8.2m2
重量 Weight 7000kg