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脉冲激光沉积设备

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PLD450A脉冲激光沉积系统

2017-03-06 点击量：

1. 可制备纳米级金属薄膜、半导体薄膜、介质薄膜、氧化物薄膜
2. 可放置多块靶材，靶台可公自转，自转速度连续可调，激光转靶与衬底距离连续可调
3. 样品台衬底可加热，衬底转速连续可调

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PLD450A脉冲激光沉积系统

1. 可制备纳米级金属薄膜、半导体薄膜、介质薄膜、氧化物薄膜 2. 可放置多块靶材，靶台可公自转，自转速度连续可调，激光转靶与衬底距离连续可调 3. 样品台衬底可加热，衬底转速连续可调

1. 可制备纳米级金属薄膜、半导体薄膜、介质薄膜、氧化物薄膜
2. 可放置多块靶材，靶台可公自转，自转速度连续可调，激光转靶与衬底距离连续可调
3. 样品台衬底可加热，衬底转速连续可调