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热蒸发镀膜系统

2017-03-09 点击量：

1. 由真空镀膜室、蒸发源、工件架、分子泵真空获得与测量系统、膜厚控制仪、机架与电气控制系统和离子枪等组成
2. 配置多组蒸发源，真空室底板安有水冷电极多套，蒸发源交替使用，上方有电动挡板
3. 工件架可放置多片不同尺寸样品，可公自转，转速连续可调，镀膜均匀性良好，蒸发距离可调
4. 离子辅助沉积枪为宽束Kaufman离子源

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