MPCVD-2微波等离子体化学气相沉积设备

2017-02-16 点击量：

1. 主要用于碳基超硬及宽带隙半导体材料单晶、纳米薄膜沉积工作方式为微波耦合反应沉积
2. 由沉积室、微波源、微波导入机构、真空系统、加热样品台、工作气路、总控电源、工作电源及机架组成
3. 样品台的加热方式采用感应诱导加热方式和等离子体自加热结合方式，可加热，可加负偏压
4. 微波源与等离子体增强工作，微波源含微波发生器与匹配器
5. 采用PLC可编程控制器和触摸屏，对设备真空抽气过程进行程序控制