PlasRing-1型多弧离子镀设备

2017-03-09 点击量：

1. 此设备为多弧离子镀设备真空腔体及配套系统的改进设备，适用于在刀具模具、汽车零部件、航空航天零件上镀制硬质涂层
2. 在真空腔体的设计、气路系统、水冷系统及整体结构等方面均有一定程度的改进，使之更适用于工业生产
3. 100mm电磁永磁蒸发源，10个圆形平面靶，电磁永磁驱动，气动引弧
4. 设备外框架采用铝合金型材，喷塑板包装，并配有悬臂式触摸屏，操作方便快捷，外型大气美观