MIS-560C超高真空磁控溅射与离子束溅射复合镀膜设

2019-02-15 点击量：

1. 该设备为三室结构的超高真空多功能磁控与离子束复合溅射镀膜设备，该类复合设备为科友真空于2000年在国内首先采用
2. 用于制备单层及多层功能膜，如各种硬质膜、光学膜、金属膜、半导体膜、磁性薄膜、介质膜和氧化物薄膜等，该类设备可以镀楔形膜，也可用于镀制MEMS半导体微电子器件，如声学传感器等
3. 可进行离子束镀膜、磁控溅射镀膜、样品清洗及退火，每种方式都可交替进行。