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磁控溅射镀膜设备

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MS500B/560/560D等型磁控溅射镀膜设备

2017-03-17 点击量：

1. 用于制备单层及多层功能膜，如各种硬质膜、光学膜、金属膜、半导体膜、磁性薄膜、介质膜和氧化物薄膜等
2. 柱状靶根据客户要求可实现单靶独立工作、轮流工作和多靶共溅射功能

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MS500B/560/560D等型磁控溅射镀膜设备

1. 用于制备单层及多层功能膜，如各种硬质膜、光学膜、金属膜、半导体膜、磁性薄膜、介质膜和氧化物薄膜等 2. 柱状靶根据客户要求可实现单靶独立工作、轮流工作和多靶共溅射功能

1. 用于制备单层及多层功能膜，如各种硬质膜、光学膜、金属膜、半导体膜、磁性薄膜、介质膜和氧化物薄膜等
2. 柱状靶根据客户要求可实现单靶独立工作、轮流工作和多靶共溅射功能