CIGS光伏模组制造设备和仪器

2017-03-17 点击量：

1. 每个镀膜室内配有磁控靶1套，水冷，射频和直流兼容。靶材利用率30%, 膜层厚度均匀性<±3%，靶基距连续可调(根据客户要求设计)
2. 进样室、出样室、溅射镀膜室多个，呈in-line排布；该系统可根据工艺需要升级为更多真空室的结构，镀膜过程可自动化操作。